波士顿微制造公司（BMF）获得其双分辨率光学系统的美国专利，这是该公司microArchD1025打印机背后的关键技术。

该专利（美国专利号12,420,486B2）名为“投影微立体光刻的多尺度系统”。BMF的microArchD1025是第一台利用双分辨率概念的机器。

据BMF称，双分辨率光学系统通过在单光路内集成多个具有不同成像比（例如10微米和25微米分辨率）的投影镜头，实现了在更大构建区域进行快速高分辨率3D打印。该公司表示，这使得打印机能够根据需要在分辨率之间切换，并提供更优化的细节、吞吐量和精度。

获得专利后，其3D打印技术在医疗器械、电子、光子学和微流体领域的应用潜力将进一步提升。通过自动为关键特征分配10微米的精细曝光，并为更大区域分配25微米的曝光，其技术将能够在复杂几何形状中实现更快的构建速度和始终如一的微米级精度。

BMF首席执行官JohnKawola表示，“这项专利巩固了我们在超高精度增材制造领域的领先地位。双分辨率架构实现了速度和精度的独特组合，使工程师能够在一次打印中制造出兼具复杂精细特征和更大几何形状的微型零件。”

BMF联合创始人兼首席技术官Chunguang Xia博士补充道，“microArchD1025体现了我们不断突破微尺度极限的使命。这款双分辨率系统不仅是一项重大的光学突破，更是一个赋能下一代微加工器件的平台。”

Chunguang Xia博士和Jiawen Xu博士是该专利的发明人，该专利已转让给BMF的母公司——中国深圳的BMF材料科技股份有限公司。